El libro está agotado actualmente
Más información sobre el libro
Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!
Compra de libros
EMC 2003, Uwe Behringer
- Idioma
- Publicado en
- 2003
- product-detail.submit-box.info.binding
- (Tapa blanda)
Te avisaremos por correo electrónico en cuanto lo localicemos.
Métodos de pago
Nadie lo ha calificado todavía.