Mit einem stetig zunehmenden Anteil hocheffizienter Solarzellkonzepte mit oberflächensensitiven Passivierschichten, ändern sich gleichzeitig die Anforderungen an die Reinheit und Beschaffenheit der Ober- und Grenzfläche zwischen dem Si-Basissubstrat und der Passivierschicht. In dieser Arbeit wurden für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen ozonbasierte Reinigungs- und Konditionierungsmethoden entwickelt. Diese sind geeignet im industriellen Maßstab Silizium-Wafer von Kontaminationen zu reinigen und die Eigenschaften der Ober- und Grenzfläche, anwendungsspezifisch auf die verwendete Passivierschicht angepasst, vorzubereiten. Der Fokus lag auf der Herstellung und Charakterisierung von ultra-dünnen SiOx-Schichten für das TOPCon Zellkonzept.
