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(ii) Fine characterization down to the atomic scale using recently devel- oped, powerful techniques such as scanning tunneling microscopy, high reso- lution transmission electron microscopy, glancing incidence x-ray diffraction, x-ray standing waves, surface extended x-ray absorption fine structure and surface extended energy-loss fine structure.
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Semiconductor Interfaces: Formation and Properties, Autores varios
- Idioma
- Publicado en
- 2011
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